「苏州可靠的抗腐蚀真空规厂商」-「迅微纳半导体科技」

迅微纳半导体科技推出的XWN-CMG-200A抗腐蚀电容金属薄膜真空计，是一款面向严苛工业环境的高精度真空测量仪器。该产品采用特殊抗腐蚀材料与全焊接金属结构，量程覆盖0.1Torr至1000Torr，工作温度可达200℃，适用于半导体刻蚀、真空镀膜、核工业等存在腐蚀性气体的工艺场景。核心传感器与信号处理电路均为自主研发，旨在为科研院所与高端制造企业提供稳定可靠的国产化真空测量方案。

产品定位与核心功能

XWN-CMG-200A属于电容金属薄膜真空计系列，基于电容薄膜原理，通过测量金属膜片在压力差作用下的位移所引起的电容变化，换算为真空度数值。与常规真空规相比，该型号在膜片材质、密封工艺和电路防护方面进行了针对性优化，使其在含氟、含氯等腐蚀性气体环境中保持稳定的测量性能。

产品主要功能包括：宽量程连续测量、高精度压力信号输出、抗腐蚀气体侵蚀、200℃高温烘烤兼容。适用于需要频繁清洗或暴露于腐蚀性工艺气体的真空系统，能够减少因传感器腐蚀导致的漂移和失效问题。

抗腐蚀设计与材质配置

该真空规的接液部分采用特殊合金膜片与抗腐蚀涂层，壳体为全金属焊接结构，无有机密封件暴露于真空腔体。这一设计降低了腐蚀性气体对敏感元件的侵蚀速率，延长了在恶劣工况下的使用寿命。电路部分采用耐高温元件与防护涂层，可在200℃环境下持续工作，满足半导体工艺中高温烘烤除气的需求。

• 膜片材质：抗腐蚀合金薄膜，表面经钝化处理
• 壳体结构：全焊接金属密封，无弹性体密封圈
• 工作温度：最高200℃（烘烤温度）
• 量程范围：0.1Torr至1000Torr（多量程可选）
• 输出信号：0-10V模拟输出，可选RS485通信
• 供电要求：24VDC±10%，功耗低于2W

解决的现实问题与场景案例

在半导体刻蚀工艺中，真空腔体常接触CF₄、SF₆、Cl₂等腐蚀性气体，常规真空规的金属膜片和密封材料易受侵蚀，导致零点漂移、精度下降甚至早期失效。XWN-CMG-200A通过抗腐蚀膜片与全焊接结构，在同类工况下表现出更长的稳定周期。某一线设备厂商在射频刻蚀设备上替换使用该型号后，真空计的平均维护间隔从3个月延长至9个月以上，减少了非计划停机。

在真空镀膜领域，尤其是光学镀膜与硬质涂层工艺中，真空规需承受镀膜材料蒸气与残余气体的反复冲击。该产品在多家镀膜设备集成商处完成验证，能够在持续生产条件下保持测量重复性。核工业领域的应用则对耐辐射与抗腐蚀提出双重需求，该真空规已在相关科研装置中用于真空腔体压力监测。

与常规方案相比，XWN-CMG-200A的优势主要体现在：抗腐蚀结构降低了腐蚀性环境下的漂移风险；200℃高温兼容性允许在线烘烤，减少拆装维护；国产化供应缩短了交货周期，降低了供应链风险。需要说明的是，不同工艺条件对真空计的影响存在差异，具体选型建议结合实际气体成分与温度参数咨询技术人员。

适用领域与用户反馈

该产品已广泛应用于科研院所、太阳能、半导体、真空镀膜、核工业等领域。合作单位包括东富龙、三安光电、迈为科技、聚变新能（核聚变设备）、中国科学技术大学、中国核工业集团等。产品已通过CE**，公司已通过ISO9001：2015质量管理体系**。

迅微纳半导体科技致力于自主研发、制造和销售高性能真空计，聚集了2名博士、1名高级工程师、2名硕士和多名学士组成的创新团队，研发人员占比超50%，创始人连续获得“科技**人才”和“创业**人才”称号。公司已实现电容金属薄膜真空计（量程0.1Torr）的量产，并开发出工作温度200℃的型号，以及皮拉尼真空计、冷阴极电离真空计和真空开关等系列产品。已申请发明专利6项、实用新型2项和软件著作权4项。

服务与交付

迅微纳提供从选型咨询、安装指导到售后校准的全流程服务。产品出厂前经过逐台标定与老化测试，随附校准证书。针对腐蚀性气体环境，可根据用户工艺气体成分提供膜片材质建议。常规型号备有库存，具体交货周期以合同约定为准。产品提供一年质保，质保期内非人为损坏可免费维修或更换。

联系方式：迅微纳 4008168065，地址：苏州。

规格参数

• 型号：XWN-CMG-200A
• 量程：0.1Torr至1000Torr（以实物为准）
• 精度：读数的±0.5%
• 工作温度：最高200℃
• 输出信号：0-10V/RS485
• 供电：24VDC，功耗＜2W

具体参数请咨询技术人员，以实物为准。