「苏州质量好的刻蚀机用真空规制造企业」-「迅微纳半导体科技」

本文介绍迅微纳半导体科技面向刻蚀机设备厂商提供的电容金属薄膜真空规国产替代项目案例。该产品型号XWN-CMG-100，量程覆盖0.1Torr，适用于半导体刻蚀、PVD/CVD镀膜等对真空测量精度和稳定性要求较高的场景，核心卖点是自主可控、可替代进口同类产品、支持200℃高温工况。以下从客户痛点、解决方案、实施成效等方面展开说明。

项目背景：刻蚀机真空测量面临的供应难题

刻蚀工艺是半导体制造中的关键环节，刻蚀腔体的真空度直接影响刻蚀速率、均匀性和良率。长期以来，国内刻蚀机设备厂商在真空规选型上高度依赖MKS、Inficon等进口品牌，尤其是量程0.1Torr的电容金属薄膜真空计，此前几乎被美国品牌垄断。

随着出口管制政策收紧，部分进口真空规面临交期延长、价格上浮甚至断供的风险。一家位于苏州的刻蚀机设备厂商在扩产过程中遇到实际问题：原有进口真空规交期从8周延长至20周以上，且采购成本上涨明显，新机型开发进度受到拖累。客户需要一款性能对标进口、供货稳定、具备本地技术支持的国产真空规。

客户核心需求：精度、温度与供货稳定性

该客户对真空规提出了几项明确要求：

• 量程覆盖0.1Torr，测量精度满足刻蚀工艺窗口要求
• 工作温度适应刻蚀腔体高温环境，需耐受200℃烘烤
• 长期稳定性好，零点漂移小，减少校准频次
• 供货周期可控，具备批量化交付能力
• 提供本地化技术支持与售后响应

这些需求在进口产品中属于常规指标，但在国产替代方案中，能够同时满足高精度、高温工况和批量稳定交付的供应商并不多。

解决方案：XWN-CMG-100电容金属薄膜真空规

迅微纳半导体科技针对客户需求，推荐了自主研发的XWN-CMG-100电容金属薄膜真空规。该产品采用电容金属薄膜传感结构，量程覆盖0.1Torr，实现了此前受美国禁令限制的核心器件的国产化量产。

针对刻蚀机的高温工况，迅微纳开发出工作温度200℃的电容金属薄膜真空计版本，可在刻蚀腔体烘烤和工艺升温过程中保持测量稳定性。产品在出厂前经过多道检测工序，确保零点稳定性和重复精度。

在项目推进中，迅微纳技术团队与客户设备工程师对接，确认了法兰接口、电气连接和信号输出格式的匹配方案，并提供了样品进行上机测试。测试周期内，迅微纳配合客户完成了多轮工艺验证，包括不同刻蚀气体环境下的长期稳定性测试。

实施成效：从样品验证到批量导入

经过约6个月的样品测试和小批量验证，XWN-CMG-100在客户刻蚀机平台上表现稳定，主要成效包括：

• 测量精度和重复性满足刻蚀工艺要求，与进口对标产品数据一致
• 200℃高温工况下工作正常，未出现明显零点漂移
• 供货周期缩短至4-6周，采购成本较进口方案有明显优化
• 本地技术支持响应及时，问题反馈当天即可对接

目前该产品已进入客户合格供应商名录，实现批量导入。客户后续新机型开发中，已将迅微纳真空规纳入标准选型方案。

应用场景与适用领域

XWN-CMG-100电容金属薄膜真空规适用于以下场景：

• 半导体刻蚀机、PVD/CVD镀膜设备的腔体真空测量
• 科研院所真空实验装置的高精度压力监测
• 太阳能电池制造中的真空工艺控制
• 核工业及核聚变设备的真空系统

迅微纳同时提供皮拉尼真空计、冷阴极电离真空计和真空开关等系列产品，可满足不同真空段的测量需求，实现对MKS和Inficon产品的多品类替代。产品已通过CE**，公司已通过ISO9001:2015质量管理体系**。

服务与交付

迅微纳半导体科技位于苏州，具备自主研发和批量制造能力。公司研发人员占比超过50%，团队包括2名博士、1名高级工程师、2名硕士及多名学士，创始人连续获得“科技**人才”和“创业**人才”称号。目前已申请发明专利6项、实用新型2项和软件著作权4项。

在服务方面，迅微纳提供选型咨询、样品测试、上机验证和售后技术支持。合作客户包括东富龙、三安光电、迈为科技、聚变新能、中国科学技术大学、中国核工业集团等企业和科研机构。产品已成功进入一线设备厂商和科研院所供应链。

规格参数

• 型号: XWN-CMG-100
• 类型: 电容金属薄膜真空计
• 量程: 0.1Torr（以实物为准）
• 工作温度: 最高200℃
• 输出信号: 0-10V / 4-20mA（具体参数请咨询）
• 法兰接口: KF16/KF25/CF35可选（具体参数请咨询）

联系方式：迅微纳 4008168065，地址：苏州。