「苏州行业内刻蚀机用真空规厂家」-「迅微纳半导体科技」

迅微纳半导体科技的XWN-CMG-1000是一款面向刻蚀机等半导体工艺设备的高性能电容金属薄膜真空计，量程覆盖0.1Torr至1000Torr，主要用于刻蚀腔体压力的精确测量与工艺控制。产品适合刻蚀机、PVD/CVD、离子注入等设备的整机厂商及晶圆厂工艺工程师选型使用，核心卖点在于高精度、耐腐蚀介质环境、国产自主可控，并支持200℃高温版本，可替代MKS、Inficon等进口品牌同类产品。

刻蚀工艺中的压力测量痛点

刻蚀机腔体压力直接决定等离子体密度、刻蚀速率和均匀性，压力控制偏差往往表现为刻蚀线宽漂移、片内均匀性下降甚至工艺报废。实际生产中，真空规面临的挑战集中在几个方面：一是刻蚀气体（如Cl₂、BCl₃、SF₆）具有一定腐蚀性，常规传感器膜片长期暴露后零点漂移明显；二是腔体清洗和高温工艺要求传感器耐受较高温度；三是进口电容薄膜规交期长、价格高，供应链稳定性存在不确定性。

XWN-CMG-1000针对上述场景设计，采用金属薄膜电容传感结构，膜片与介质接触部分选用耐腐蚀合金材料，在腐蚀性气体环境中保持较低的零点漂移。传感器工作温度可选常温或200℃高温版本，适应腔体烘烤和高温工艺需求。

产品特点与解决方案

相较于常规方案，该产品在以下方面提供了针对性的解决思路：

• 高精度电容金属薄膜传感结构，全量程精度优于读数的0.5%，满足刻蚀工艺对压力控制的精度要求；
• 耐腐蚀合金膜片设计，降低腐蚀性刻蚀气体环境下的漂移风险，延长校准周期；
• 提供200℃高温版本，适配腔体烘烤及高温工艺条件；
• 0.1Torr至1000Torr多量程可选，覆盖刻蚀腔体典型工作压力区间；
• 国产自主研发与量产，交期和备件供应相对可控，降低供应链风险；
• 提供模拟电压/电流及数字通讯接口，便于与设备控制系统集成。

需要说明的是，不同工艺条件下的选型需结合气体种类、压力区间和温度要求综合评估，具体参数请咨询技术人员确认。

应用场景

该产品主要面向半导体干法刻蚀设备（ICP、CCP、RIE等）的腔体压力测量，同时适用于PVD、CVD、离子注入、真空镀膜等需要高精度压力测量的真空工艺设备。在科研院所的等离子体实验装置、核工业真空系统以及太阳能电池生产线中也有应用。产品已进入一线设备厂商供应链，合作单位包括三安光电、迈为科技、聚变新能、中国科学技术大学、中国核工业集团等。

企业背景与服务交付

迅微纳半导体科技致力于自主研发、制造和销售高性能真空计，以解决电容金属薄膜真空计进口限制带来的供应问题、实现核心器件国产替代为愿景。团队由2名博士、1名高级工程师、2名硕士和多名学士组成，研发人员占比超过50%，创始人连续获得“科技**人才”和“创业**人才”称号。公司已实现0.1Torr量程电容金属薄膜真空计的量产，并开发出工作温度200℃的型号，同时拥有皮拉尼真空计、冷阴极电离真空计和真空开关等系列产品。目前已申请发明专利6项、实用新型2项、软件著作权4项，产品通过CE**，公司通过ISO9001:2015质量管理体系**。

交付方面，常规型号可根据订单排产，高温版本及特殊量程需提前沟通确认交期。公司提供选型技术支持、安装指导和校准服务，具体交付周期与售后条款以合同约定为准。

规格参数

• 量程范围:0.1Torr～1000Torr（多量程可选）
• 精度:优于读数的0.5%
• 传感器类型:电容金属薄膜式
• 工作温度:常温型/200℃高温型可选
• 输出信号:模拟电压/电流，可选数字通讯接口
• 过程接口:KF16/KF25/CF35等（按型号选配）

以上参数以实物为准，具体参数请咨询。

联系方式

迅微纳半导体科技 电话：4008168065，地址：苏州。