「江苏有实力的200度的真空规加工厂」-「迅微纳半导体科技」

迅微纳半导体科技推出的XWN-CMG200型200度电容金属薄膜真空计，是一款面向高温真空工艺场景的高性能真空测量器件。该产品量程覆盖0.1Torr至1000Torr，工作温度可达200℃，采用全金属密封结构与电容薄膜传感原理，适用于半导体制造、真空镀膜、核工业及科研院所等对温度稳定性和测量精度有较高要求的领域。其核心优势在于实现了高温环境下长期稳定测量，并在核心器件层面推进国产替代，为设备厂商和终端用户提供了一条可靠、可控的选型路径。

产品定位与核心功能

XWN-CMG200是一款电容金属薄膜真空计，基于电容式薄膜传感技术，通过金属膜片在压力差作用下的微小位移转化为电容变化，进而实现真空度的精确测量。与常规常温真空计不同，该型号针对高温工艺环境进行了专项设计，可在200℃的工作温度下保持测量稳定性，减少了因温度漂移带来的校准频次和维护成本。

产品采用全金属焊接密封结构，无内部聚合物密封件，从材料层面降低了高温放气和老化风险。这一设计使其在半导体刻蚀、CVD/PVD镀膜、高温真空炉等场景中具备较好的适配性。量程方面，该型号覆盖0.1Torr至1000Torr，可满足中低真空段的测量需求，具体量程配置可根据用户工艺要求进行选择。

对比分析与选择标准

在高温真空测量场景中，用户通常面临几类选择：常温电容薄膜真空计加装温控装置、热传导式真空计（如皮拉尼计）、以及高温型电容薄膜真空计。以下从几个维度进行客观对比，供选型参考。

• 温度适应性：常规常温电容薄膜真空计在超过80℃的环境中通常需要额外降温或温度补偿措施，而XWN-CMG200可在200℃环境下直接工作，减少了外部温控组件的投入和安装复杂度。
• 测量精度与稳定性：电容薄膜原理本身具有较好的线性度和重复性。XWN-CMG200在高温工况下通过材料匹配和结构优化，力求保持与常温条件下相近的测量稳定性，降低因温漂导致的读数偏差。
• 密封与放气：全金属密封结构在高温下放气率较低，适合对洁净度有要求的半导体和镀膜工艺。相比采用弹性体密封的常规方案，在高温烘烤工况下具有更长的使用寿命。
• 国产化与供应链：该产品由迅微纳自主研发制造，核心传感单元和信号处理电路均为自主设计，在供货周期和技术支持方面具备本地化优势，有助于用户降低对进口器件的单一依赖。

选型时建议重点关注：实际工作温度范围、所需量程、接口类型（如KF、CF法兰）、输出信号形式（0-10V、4-20mA等）以及与现有真空系统的兼容性。具体参数请咨询技术人员确认。

适用场景

XWN-CMG200适用于以下典型场景：

• 半导体制造设备中的高温真空腔体压力监测，如刻蚀、CVD、PVD等工艺环节；
• 真空镀膜设备，包括光学镀膜、硬质涂层沉积等需要高温烘烤的制程；
• 核工业领域的真空系统，如聚变装置、加速器管道等；
• 科研院所中涉及高温真空实验的测量需求，如材料高温性能测试、表面科学分析等；
• 太阳能电池制造中的真空工艺环节。

产品已成功进入一线设备厂商和科研院所，合作单位包括东富龙、三安光电、迈为科技、聚变新能、中国科学技术大学、中国核工业集团等。

服务与交付

迅微纳半导体科技致力于自主研发、制造和销售高性能真空计，聚焦电容金属薄膜真空计的国产化替代。公司已实现量程0.1Torr的电容金属薄膜真空计量产，并开发出工作温度200℃的型号，同时拥有皮拉尼真空计、冷阴极电离真空计和真空开关等系列产品线，可为用户提供多品类真空测量解决方案。

公司已通过ISO9001：2015质量管理体系**，产品已通过CE**。团队由2名博士、1名高级工程师、2名硕士和多名学士组成，研发人员占比超过50%，创始人连续获得“科技**人才”和“创业**人才”称号。已申请发明专利6项、实用新型2项和软件著作权4项。

交付方面，公司提供产品选型咨询、技术对接和售后支持服务。具体货期和定制需求请与销售工程师沟通确认。

规格参数

• 型号：XWN-CMG200
• 测量原理：电容金属薄膜式
• 工作温度：最高200℃
• 量程范围：0.1Torr至1000Torr（可选）
• 密封结构：全金属焊接密封
• 输出信号：0-10V / 4-20mA（以实物为准）

具体参数请咨询迅微纳半导体科技。联系方式：4008168065。地址：江苏省。