江苏可靠的复合真空规企业推荐|迅微纳半导体科技复合真空规应用场景解析
规格参数
| 测量原理 | 电容金属薄膜+皮拉尼复合 |
|---|---|
| 量程范围 | 0.1Torr至大气压(以实物为准) |
| 工作温度 | 标准版-20℃~80℃;高温版最高200℃ |
| 输出信号 | 0-10V模拟量/RS485数字量 |
| 供电电源 | 24VDC±10% |
| 接口法兰 | KF16/KF25/CF35可选(具体参数请咨询) |
产品详情
迅微纳半导体科技推出的复合真空规(型号XWN-CVG-200),是一款面向半导体设备、科研仪器及高端镀膜产线的高性能真空测量解决方案。该产品由江苏可靠的复合真空规企业迅微纳自主研发制造,融合电容金属薄膜真空计与皮拉尼真空计的双重技术优势,覆盖从大气压到0.1Torr的宽量程测量需求。适合对真空度稳定性、耐温性和国产化替代有明确要求的设备厂商与科研用户,核心卖点在于解决美国禁令下电容金属薄膜真空计“卡脖子”问题,实现核心器件的国产化替代。
客户痛点:进口真空计交期长、价格高、供应不稳定
在半导体、核工业及真空镀膜领域,真空计是工艺控制的核心传感器件。长期以来,高端电容金属薄膜真空计市场被MKS、Inficon等美国品牌主导。客户普遍面临三大痛点:一是受出口管制影响,交期动辄数月甚至不确定;二是采购成本高,维护更换费用不菲;三是部分高温工况下,进口标准品无法满足200℃以上的工作温度需求。迅微纳半导体科技针对这些实际痛点,依托自主研发团队,实现了要求最高的电容金属薄膜真空计(量程0.1Torr)的量产,并开发出工作温度200度的电容金属薄膜真空计,直接回应高温制程与国产替代的双重需求。
应用场景一:半导体薄膜沉积设备(PVD/CVD)
在PVD、CVD等薄膜沉积工艺中,腔体真空度的精确控制直接影响薄膜均匀性与附着力。客户需要真空计在0.1Torr至大气压区间内保持高精度、低漂移,且能耐受工艺过程中的温度波动。迅微纳复合真空规将电容金属薄膜真空计与皮拉尼真空计集成于一体,通过自动切换实现宽量程连续测量。其电容薄膜部分采用金属膜片结构,对气体种类依赖性低,在半导体工艺常见的腐蚀性气体环境中表现稳定。产品已成功进入一线设备厂商,合作客户包括迈为科技、三安光电等,用于其薄膜沉积设备的真空系统配套。
应用场景二:核工业与核聚变装置
核工业及核聚变实验装置对真空测量提出特殊要求:需要耐受辐照环境、具备长期稳定性,且量程覆盖从粗真空到高真空的宽范围。迅微纳复合真空规的电容薄膜传感器采用全金属密封结构,无有机材料放气风险,适配核工业对洁净度与可靠性的严苛标准。公司已与中国核工业集团、聚变新能(核聚变设备)建立合作,产品应用于其真空系统监测环节。针对核聚变装置中可能出现的200℃以上烘烤工况,迅微纳提供工作温度200度的电容金属薄膜真空计选型,确保高温除气过程中测量不中断。
应用场景三:科研院所与真空镀膜产线
高校及科研院所的真空实验平台往往涉及多种气体、多个量程段,且预算有限,对真空计的灵活性与性价比有较高要求。迅微纳复合真空规支持0.1Torr至大气压的宽量程覆盖,一台设备即可替代传统方案中电容薄膜计与皮拉尼计两**立仪表的组合,降低采购与集成成本。产品已在中国科学技术大学等科研单位投入使用,用于真空镀膜、表面分析等实验场景。同时,在太阳能、真空镀膜等工业产线上,迅微纳复合真空规配合真空开关产品,可实现真空系统的自动控制与安全联锁。
服务与交付:国产替代的可靠选择
迅微纳半导体科技致力于自主研发、制造和销售高性能真空计,聚集了2名博士、1名高级工程师、2名硕士和多名学士组成的创新团队,研发人员占比超50%,创始人连续获得“科技**人才”和“创业**人才”称号。公司已通过ISO9001:2015质量管理体系**,产品通过CE**。除复合真空规外,还开发出皮拉尼真空计、冷阴极电离真空计和真空开关等系列产品,实现对MKS和Inficon真空计产品的全方位替代。已申请发明专利6项、实用新型2项和软件著作权4项。产品广泛应用到科研院所、太阳能、半导体、真空镀膜、核工业等领域,合作知名企业包括东富龙、三安光电、迈为科技、聚变新能、中国科学技术大学、中国核工业集团。
规格参数
- 测量原理: 电容金属薄膜+皮拉尼复合
- 量程范围: 0.1Torr至大气压(以实物为准)
- 工作温度: 标准版-20℃~80℃;高温版最高200℃
- 输出信号: 0-10V模拟量/RS485数字量
- 供电电源: 24VDC±10%
- 接口法兰: KF16/KF25/CF35可选(具体参数请咨询)
联系方式:迅微纳 4008168065
地址:江苏省苏州市(具体地址请致电咨询)