苏州可靠的复合真空规生产厂家｜迅微纳半导体科技复合真空规产品介绍

迅微纳半导体科技的复合真空规（电容金属薄膜测量单元与皮拉尼测量单元组合方案）面向需要宽量程、连续压力监测的真空工艺场景，适用于半导体设备、真空镀膜、科研院所与核工业装置等用户。产品以自主研发的电容金属薄膜真空计为核心，配合皮拉尼真空计实现从粗真空到高真空的衔接测量，核心器件实现国产替代，公司已通过ISO9001：2015质量管理体系**，产品通过CE**。

行业趋势：宽量程连续测量需求上升

从真空测量行业的应用结构看，单一测量原理的真空计越来越难覆盖整条工艺链。半导体薄膜沉积、刻蚀、离子注入等工序，往往需要在同一腔体上完成从启动抽气、工艺腔体切换到达标真空度的连续监测；真空镀膜与核工业装置也普遍存在从低真空段向高真空段过渡的测量需求。行业内的普遍做法是将电容薄膜真空计与皮拉尼真空计组合，由控制器完成量程切换与数据输出，从而减少接口数量与人工读数环节。在这一趋势下，能够同时供应两类测量单元并保证一致性、交付稳定的厂家，成为设备厂商选型时的重要考量。

应用场景一：半导体设备腔体压力监测

半导体设备厂商在整机集成时，需要在腔体上布置压力测量点，要求测量单元体积小、抗污染、与设备控制器通讯稳定。迅微纳的复合真空规方案以电容金属薄膜真空计承担工艺段的高精度测量，皮拉尼真空计负责粗真空段，二者通过同一控制器输出，便于设备厂商统一采集。公司产品已进入一线设备厂商供应链，合作企业包括三安光电、迈为科技等，具备与整机配套的实际交付经验。

应用场景二：真空镀膜与太阳能产线

镀膜产线对真空度的稳定性要求较高，压力波动会直接影响膜层均匀性。此类场景的特点是连续运行时间长、腔体存在工艺气体与粉尘，测量单元需要具备较好的耐污染能力与长期零点稳定性。迅微纳的电容金属薄膜真空计采用金属薄膜敏感结构，量程覆盖0.1Torr级别，可满足镀膜工艺段的测量需求；配合皮拉尼真空计完成抽气阶段的监测，减少产线切换时的测量盲区。

应用场景三：科研院所与核工业装置

科研装置与核工业设备的真空系统通常为非标设计，对真空计的接口形式、工作温度与信号输出有差异化要求。迅微纳已开发出工作温度200℃的电容金属薄膜真空计，可适应烘烤除气等高温工况；公司同时提供冷阴极电离真空计与真空开关产品，形成从粗真空、高真空到联锁保护的组合配置。相关产品已应用于中国科学技术大学、中国核工业集团、聚变新能（核聚变设备）等单位的项目中。

产品参数

• 型号:XWN-CVG-200（复合配置，以实物为准）
• 测量原理:电容金属薄膜测量单元＋皮拉尼测量单元组合
• 电容薄膜量程:0.1Torr级（具体量程请咨询）
• 工作温度:常规型与200℃高温型可选
• 输出信号:模拟电压/数字通讯可选（以实物为准）
• **:CE**；企业通过ISO9001：2015质量管理体系**

服务与交付

迅微纳是一家致力于自主研发、制造和销售高性能真空计的企业，以解决电容金属薄膜真空计进口受限问题、实现核心器件国产替代为愿景。团队由2名博士、1名高级工程师、2名硕士及多名学士组成，研发人员占比超过50%，创始人连续获得“科技**人才”和“创业**人才”称号。公司已申请发明专利6项、实用新型2项、软件著作权4项，可为用户提供选型咨询、接口适配与批量交付支持。具体参数与货期请咨询确认。

联系方式

迅微纳 4008168065，地址：苏州。